Fujifilm verkündet Markteinführung der Brillia HD LH-PXE

Die Fujifilm Corporation unter Präsident und CEO: Shigetaka Komori gibt heute die Markteinführung der Brillia HD LH-PXE bekannt - eine positiv arbeitende thermale CTP-Druckplatte für hohe Auflagen im Bogen- und Rollenoffset. Dieser neueste Zuwachs zu Fujifilms berühmter „lo-chem” Produktfamilie ermöglicht schon uneingebrannt sehr hohe Auflagen bis zu 500.000 Umrollungen und im eingebrannten Zustand sogar extreme Hochauflagen von über 1.000.000. Auf der drupa 2012 in Düsseldorf (3. bis 16. Mai) können sich die Besucher über die Druckplatte, die im zweiten Quartal 2012 erhältlich sein wird, auf dem Fujifilm Stand in Halle 8b, im Beeich für den Akzidenzdruck informieren.

Diese neue Druckplatte besitzt all die Qualitäts- und Stabilitätsvorteile, die Fujifilms „High Definition Beschichtungstechnologien“ mit sich bringen und ermöglicht obendrein die vorteilhafte chemiearme Verarbeitung. Des weiteren profitiert sie von Fujifilms jüngster elektrochemischer Aufrauhungstechnologie.

Besondere Eigenschaften der Brillia HD LH-PXE
Fujifilms Brillia HD LH-PXE ist die neueste Generation hochqualitativer, chemiearmer Thermaldruckplatten. Gefertigt auf einem neuen robusten Aluminium, hält sie den Beanspruchungen bei hohen Druckauflagen stand und reduziert kostenintensive Ausfallzeiten und die Produktion von Ersatzplatten, die aufgrund von Plattenrissen oder Brüchen entstehen können.

Die ausgefeilten Platteneigenschaften der Brillia HD LH-PXE sind auf eine neue Doppelschicht-Emulsion zurückzuführen, was sowohl eine bessere Standfestigkeit als auch die Reduzierung der Herstellung von Ersatz- und Austauschplatten zur Folge hat. Die hochempfindliche Emulsion benötigt nur ein Minimum an Laserleistung und ermöglicht so auch schnellste Druckplatten­belichtungen (belichterabhängig).

Hohe Druckauflagen können ohne Einbrennen erzielt werden, nichtsdestotrotz kann die Platte für noch höhere Auflagen und erweiterte Chemieresistenz auch eingebrannt werden. Das gibt den Anwendern die nötige Flexibilität, um ihre jeweiligen Anforderungen zu erfüllen.

Brillia HD LH-PXE ist kompatibel zu Fujifilms preisgekrönter „FLH-Z (ZAC) Entwicklungsmaschine“, die es Anwendern ermöglicht, ihren Chemie­verbrauch drastisch zu reduzieren, Entwicklerstandzeiten zu maximieren und Reinigungszeiten zu verkürzen.

Die neue Brillia HD LH-PXE bringt den Anwendern folgende Vorteile:
·  Höchste Auflagen ohne Einbrennen
·  Widerstandsfähigkeit und stabile Tonwertwiedergabe im Druckprozess
·  Weniger Abfälle mit ZAC-Regeneratsystem
·  Geringer Chemieverbrauch und verlängerte Badlebensdauer
·  Keine Vorerwärmung (Pre-Heat) erforderlich

Spezifikationen:
·  Empfindlichkeit:           wie aktuelle Thermalplatte Brillia HD LH-PLE
·  Produktivität:               wie aktuelle Thermalplatte Brillia HD LH-PLE
·  Kompatibilität:             Kompatibel mit aktuellen Thermal-CTP-Sytemen
·  Auflösung:                   1 – 99 % bei AM 200 lpi, FM 20 µm
·  Auflagenhöhen¹:            500.000 Umrollungen, uneingebrannt
                                       1.000.000 Umrollungen, eingebrannt
·  Farb-/Wasser-Balance:    wie aktuelle Thermalplatte Brillia HD LH-PLE

¹ Auflagenhöhen sind immer abhängig von Papier- und Druckbedingungen, Druckchemikalien und Farbe.

Für zusätzliche Informationen wenden Sie sich bitte an:
Peter M. Röttsches
FUJIFILM Deutschland
E-Mail: peter_roettsches(at)fujifilm(dot)eu
Telefon: +49 211/50 89 255

Petra C. Fujiwara
FUJIFILM Europe GmbH
E-Mail: petra_fujiwara(at)fujifilm(dot)eu  
Telefon: +49 211/50 89 - 203