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France

Nouvelle plaque Fujifilm Superia LH-S2 à chimie réduite : une étape vers le sans développement

16.04.2018


Superia LH-S2

 

Fujifilm annonce ce jour le lancement d’une nouvelle plaque à chimie réduite avec des caractéristiques uniques. Elle ne nécessite pas de développement chimique classique mais un simple gommage. La  Superia LH-S2 bénéficie des mêmes technologies de base que les plaques Fujifilm sans développement avec des performances exceptionnelles, moins de déchets et une manipulation plus facile. C’est une première étape idéale pour les imprimeurs qui souhaitent aller vers la plaque sans développement.

Leader mondial pour les plaques offset hautes performances, Fujifilm a développé une gamme de solutions sans développement et à chimie réduite. Elle repose sur « Superia », un concept d’économie de ressources pensé pour optimiser la rentabilité de l’impression offset. La Superia ZD, notamment, plaque phare de la gamme, permet des tirages plus longs et est compatible avec les presses UV. Elle offre les avantages du sans développement à un plus grand nombre d’imprimeurs. 

Fujifilm a tiré parti des technologies multicouche de pointe dont sont dotées ses solutions sans développement pour aller encore plus loin et créer une passerelle vers la suppression totale de l’étape de développement. La plaque Superia LH-S2 et la gamme sans développement de Fujifilm partagent plusieurs technologies et présentent fondamentalement les mêmes avantages. La Superia LH-S2, qui n’est pas totalement sans développement, ne nécessite qu’un simple nettoyage par gommage. L’utilisateur bénéficie de plusieurs avantages de la plaque sans développement et peut évoluer ainsi tranquillement vers ce procédé.

Parmi ces avantages :

i)              La sensibilité élevée de la Superia LH-S2. Elle permet une meilleure productivité. La Superia LH-S2 peut, en effet, être utilisée à des vitesses d’écriture supérieures, ce qui optimise l’utilisation du CtP et permet une re-sortie de plaque beaucoup plus rapide.

 

ii)             L’élimination de l’usage des produits chimiques conventionnels. La plaque Superia LH-S2 offre une qualité exceptionnelle à 200 lpi. C’est une solution adaptée aux applications d’impression haute de gamme, y compris en trame FM 20 μm.

 

iii)            Une superbe performance tonale. La Superia LH-S2 est robuste et conçue pour résister aux rigueurs des conditions d’impression. Elle est facile à manipuler et résistante aux traces de doigt, les opérateurs peuvent travailler en toute sérénité.

 

iv)           Des performances d’ablation améliorées. En réduisant les débris susceptibles de s’accumuler dans le CTP, le taux de disponibilité de celui-ci est plus élevé. Le temps consacré au nettoyage et au remplacement des filtres est limité.

 

v)            Une durée de vie incomparable. La Superia LH-S2 offre une parfaite uniformité de la première à la dernière plaque, ce qui réduit la gâche, mais aussi les coûts.

Sean Lane, responsable produits offset chez Fujfilim Graphic Systems Europe, explique : « Pour les imprimeurs qui envisagent de passer à la plaque sans développement mais qui ne sont pas en mesure de le faire immédiatement, la Superia LH-S2 est une solution idéale. Avec un impact réduit sur l’environnement, la possibilité de réaliser des économies et la compatibilité avec la plupart des CTP, c’est une étape vers les plaques sans développement Superia ZD ou Superia ZP de Fujifilm. »

« Travailler avec Fujifilm pour la production de plaques offre aussi d’autres avantages », ajoute Sean Lane. « Comme l’accès à nos technologies jet d’encre et à nos flux de production de pointe. Notre expertise dans la mise en place de technologies innovantes et notre infrastructure de service au niveau mondial font que nous sommes idéalement placés pour aider les imprimeurs à se développer et à élargir leur offre. »


Pour tout contact communication:
Daniel Porter
AD Communications   
E: dporter@adcomms.co.uk
Tel: +44 (0)1372 464470

Régis Ruys
Fujifilm Graphic Systems
E-Mail : regis_ruys@fujifilm.eu
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