This website uses cookies. By using the site you are agreeing to our Privacy Policy.

Polska

Serce systemu

Matryca

Matryca w formacie FUJIFILM G

FUJIFILM GFX 50S jest wyposażony w średnioformatową matrycę CMOS 43,8x32,9 mm opracowaną na bazie bogatej historii firmy Fujifilm, przełomowych technologii cyfrowych i dogłębnej wiedzy w zakresie średnioformatowych aparatów analogowych. Rozdzielczość rzeczywista matrycy wynosi aż 51,4 MPix, co w połączeniu z wysokowydajnymi obiektywami GF przekłada się na doskonałe tonacje i wyrazistość. Powinno to zrobić wrażenie zarówno na użytkownikach zajmujących się fotografią komercyjną i modową, jak i krajobrazową.

 

 

 

Zoptymalizowana konstrukcja matrycy

Optymalizacji poddano kształt mikrosoczewek skupiających światło oraz proces przetwarzania oparty na fotodiodach, aby uzyskać wysoki poziom ostrości i szeroki zakres dynamiczny. Najniższa natywna czułość ISO 100 i 14-krokowy zakres dynamiczny wykorzystujący 14-bitowe dane RAW pomagają uzyskać w różnych warunkach wysokiej rozdzielczości obrazy, na których skóra ma bogate tonacje, a liście złożone detale.

Procesor

X-Processor Pro

 

Zastosowany w aparacie FUJIFILM GFX 50S mechanizm przetwarzania obrazu X-Processor Pro wydobywa cały potencjał z matrycy 51,4 MPix. Dzięki zaawansowanej technologii procesor przyspiesza i optymalizuje pracę aparatu w wielu aspektach, zapewniając m.in. imponujące odwzorowanie kolorów z wykorzystaniem unikalnych trybów symulacji filmu, wbudowaną konwersję plików RAW do 8-bitowego formatu TIFF, precyzyjny autofokus z detekcją kontrastu, krótki czas uruchomienia, a także minimalny poziom opóźnienia migawki i odstępu w wykonywaniu zdjęć.

 

Bagnet

Bagnet FUJIFILM G

W aparacie FUJIFILM GFX 50S użyto bagnetu G o średnicy 65 mm, którego odległość między płaszczyzną oporową bagnetu a powierzchnią matrycy wynosi 26,7 mm, a minimalna odległość BF 16,7 mm. Bagnet wykorzystuje aż 12 elektronicznych styków do wysyłania i odbierania danych, a ponadto obsługuje szeroką gamę obiektywów i akcesoriów. Krótka odległość BF uzyskana dzięki odpowiedniej konstrukcji systemu bezlusterkowego firmy Fujifilm pozwala na większą swobodę w projektowaniu obiektywów. W efekcie umożliwia produkcję szybkich, kompaktowych i wydajnych obiektywów GF z ograniczonym winietowaniem i dużą ostrością na całej powierzchni kadru.